10/02/2017 – De ins & outs van conformele dunnefilm depositie

Bart Onsia, 18 januari 2017 – Ben je actief in gasificatie, heterogene katalyse, medicijnafgifte regulerend weefsel, injectiemal coating, coaten van poeders, flexibele sensoren, brandstofcellen, elektrolyse, biomedische implantaten, (meso)poreuze membranen, adsorptie, elektrodes, microfluïdica, biomedische regeneratiestructuren, microelektronica, 3D printen, filtratie, batterijen, vezelachtig materiaal, … of een andere toepassing waarbij poreuze of hoog specifiek oppervlak van belang is, dan is dit event (imec Leuven – 10 februari) niet te missen.

Dunne filmen verhogen de functionaliteit van oppervlakken in een hele resem van toepassingen. Vaak is een groot specifiek oppervlak hierbij belangrijk. Dit is een uitdagende combinatie. Om het specifiek oppervlak te verhogen brengt men een 3D-structuur aan op het oppervlak: ruwheid, porositeit, (nano-)draden. En tegelijk is het vaak moeilijk voor de dunnefilm precursoren om diep door te dringen in de poriën, of in de 3D structuur. Nog moeilijker is het om die 3D structuren zo uniform mogelijk te bedekken met de dunnefilm, ofte conformeel te coaten.

Hoe conformeel coaten met behulp van verschillende dunnefilm depositietechnologieën, zowel vacuüm als in atmosferische condities, is het onderwerp van dit event. We belichten de parameters die de depositiesnelheid beïnvloeden, hoe haalbaar conformaliteit is, welke solventen, draaggassen of additieven te gebruiken en zo meer. We delen al onze tips & tricks en u gaat naar huis met een toolbox om uw conformeel dunnefilm-depositieproces te ontwikkelen. Met onze hulp indien nodig of gewenst.

De technologieën die we zullen behandelen zijn:

  • Atomic & Molecular Layer Deposition (ALD & MLD); ALD is de kampioen in conformele depositie van ultra-dunne (grootteorde nanometers) lagen, waarbij een dunnefilm (atomische) laag per laag wordt aangebracht. MLD is een recentere variant waarbij de dunne film opgebouwd wordt uit grotere moleculaire fragmenten.
  • ElectroChemical Deposition (ECD) waarbij zelflimiterende reacties worden benut om conformaliteit te bereiken.
  • Chemical Solution Deposition (CSD) tot extreme performantie gedreven door het sprayen van mist gecombineerd met substraat verwarming.

Grijp de gelegenheid om te discussiëren met experten van UHasselt, UGent, KU Leuven en imec en met concullega’s.

Dit event belicht resultaten uit het SBO-project SoS-Lion dat gesteund werd door IWT en FWO.

Agenda
Each presentation will start with an introduction to the deposition technology and will then dive into the depths of how to reach conformality
13:30 Registration & welcome coffee
14:00 Introduction to conformal thin film deposition
14:15 Chemical solution deposition onto high aspect ratio 3D structures: engineering precursors and ultrasonic spraycoating. An Hardy, UHasselt –  Institute for Materials Research and imec division imomec
15:05 BREAK
15:20 ElectroChemical Deposition, self-limiting reactions for conformality Philippe Vereecken, imec
16:10 BREAK
16:25 Atomic & Molecular Layer Deposition 2 flavours of a sequential CVD process Christophe Detavernier, Ghent University
17:15 Networking drink

 

Practical

Date Friday the 10th of February
Location Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Heverlee
Registration Free but required. Please register by mail to Franciska.Vanheusden@imec.be

Comments are closed.